基盤に付着した酸化シリコンの定量化

はじめまして，皆様方の経験・知恵をお借りしたく，投稿させて頂きました。
接触式センサーにおいて，シロキサンｶﾞｽ接点障害に関するﾀﾌﾈｽ試験を行っております。酸化ｼﾘｺﾝ(sio2)が付着した際，接点障害になるﾒｶﾆｽﾞﾑは勉強し理解できたのですが，その次のステップとして，接点障害になる際の酸化ｼﾘｺﾝ付着量を定量化したいです。

?基盤に付いた酸化ｼﾘｺﾝを定量化する最適な方法をどなたか教えていただけますでしょうか。
?定量化できるなら，使用する単位は何が適しておりますでしょうか？

（個人での調査結果）
?素人ながら，いろいろ解析方法を調査したところ，
EPMA解析を使えば付着量濃度がわかるそうですが，SiとO2で分離して濃度測定結果が出る可能性があります。その場合，酸化ｼﾘｺﾝ(sio2)として正確な値とはならないと思うので，その辺の解釈に関してご存知の方はご教授願います。
?ｇなら理解しやすいのですが，ppmなら取り扱いかた(考え方)で注意が必要かもしれません。事前に調査しておくべき事があれば，ご指摘いただけますでしょうか。

以上，大変不躾ですが，皆様方のご教授をお待ちしております。宜しくお願いします。