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2008/05/12 17:16
いつもいろいろ参考にさせていただいています。
現在円盤状の板を回転させながら、上面よりノズルで液を塗布して膜をつくることを検討しています。
円盤の面積に対してノズルの噴射面積が狭い為、ノズルを中心から外側に向かって移動させる構造にしようと考えていますが、一定の膜厚をつけるためにノズルの移動速度を変化させないといけません。
外側にいくほど塗布面積が多くなるので、移動速度を遅くしていかなければならない事は分かるのですが、具体的にどのように計算していくのか、考えれば考えるほど分からなくなってきました。
ノズルから吐出された液は、同一箇所に塗布すると円錐状の膜厚(中心が厚く、外側が薄い)になります。この円錐を任意の膜圧まで一定時間積み上げながら移動していくと次々に積算されていき、また円の外側へ行くほど塗布面積も多くなる・・・
このような場合、ノズルの移動速度はどのように計算していけばいいのでしょうか?参考になるようなアドバイスでも構いません。宜しくお願いします。
参考までに、以下のような条件で算出したいと考えています。
円盤直径:200mm
膜の形成状況:底面直径5mm、高さ0.1mmの円錐形状
目標膜圧:0.2mm
円盤の回転速度:現時点で特に指定なし
ノズルの移動速度:不明(これを計算したいです)
計算の方法は分かりませんがよく似たやり方でCDとかの記録面に液を均一に塗布する構造は円盤の中心辺りに液を一定量垂らしてその後円盤の回転遠心力で液を均一に伸ばす方法を行っていると聞いた事があります。
その用にすればノズルの移動量は考えなくていいと思います。でも膜圧は薄いと思います。膜圧が0.2mmと言うとこの作業を何回か行わないと出来ないし液の粘度によっても変わってくると思います。ちなみにCDとかは円盤の回転はサーボモータで高速回転してると思います。
こんな事しか分かりませんが参考になればいいと思って書きました。
回答ありがとうございました。
確かにご指摘の通り、スピンコートという方法もありますね。
今回色々な方法を模索中なのですが、まだまだ勉強が足りないなという感じです。
参考になるアドバイスありがとうございました。また自分なりに考えてみます。
2008/05/13 15:11
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