シリコンオイルの洗浄方法とは？

アカデミックに考察して、実験で有効性を確認していくしかありません。

先ず、アカデミックな考察は、
【物理的効果】
? マイクロバブルのアタックで、付着しているシリコンオイルを除去する
? 超音波(ソニック)のキャビテーション効果で、付着しているシリコンオイルを除去する
　 効果は?より大きいが、周波数により決まった箇所しかキャビテーションしないので、
　 決まった箇所しか効果がない
　 それを改善する場合は、製品を揺動させるか、超音波の周波数を変化させるかです
　 ?より高価です
【化学的効果】
? オゾン洗浄効果(シリコンオイル等の有機汚染物質は、短波長のUV照射光を吸収すること
　 により、分解されます)を利用ですが、これは乾式(ドライ)プロセスです
　 湿式(ウエット)プロセスでは、効果はあまりありません
　 (“オゾン　シリコンオイル　分解”で検索すると、詳細が確認できます)
? 界面活性剤を使用して、製品とシリコンオイルの密着部の接触部分に入り込み、
　 剥離作用で剥がす(接触角を増大させ剥がす感じ)
　 また、シリコンオイルを乳化させて溶かす作用が期待できます
　 (“オイル 　乳化”で検索すると、詳細が確認できます)
? 耐ケミカル性のよいテフロン等の樹脂では、塩酸等のケミカルで内部に浸み込んだ
　 シリコンオイルも除去が可能となる
　 (鉄鋼等では、腐食してしまいますがね)

詳細仕様が判りませんが、界面活性剤＋バブリング or　超音波洗浄　で検討でしょうかね。

再付着や再付着防止目的の洗浄液クリーニング等々は、洗濯機のように考えては駄目です。

洗浄技術の本で、基礎から勉強してみてください。

急がば廻れです。

効果は零ではないですが、設備的に問題が大きいです。

ＴＲＹしてみては如何でしょうか？

それよりは、界面活性剤の効果がウエットプロセス上では大きいです。

ドライプロセスでは、界面活性剤が使用できないので、オゾンで分解等を用います。

ウエットプロセスでは、界面活性剤で乳化の方が合理的です。

(オゾンは、悪臭の原因ともなりますが、毒ガスに変化する場合もあるので、機密保持や、
排気装置のシステム構成には大きな注意を払う必要があり、あまり推薦しません。

洗浄のドライ(DRY）プロセスもウエット(WET)プロセスも一長一短があります。

環境に優しいや優しくないも、実際にドライでどの位中和をして、外気へ放出しているかは、
実際は不明でチャンピオンデータであるか、初期の計測値だけ効果がある触媒を使用している
や、原発の如く実際は不明です。
また、WETプロセスも□芝等は、工場の地下に放出していたりして、業務改善命令を受けたり
していて、これも運用上も含めて問題があります。

半導体でも、WETプロセスが綺麗な感覚のDRYプロセスに殆ど移行すると考えられましたが、
洗浄度合いの絡みもあって、あまり移行がなされていません。

洗浄物が何であるか、それと洗浄物の洗浄度がいくらであるか、等々によっても選択が
異なります。
回答(２)のiwanaiの記載は、偏った記載で且つ文献のみでの記載なので、薄ぺらい感じか
しますwwwww。lol。

溶解洗浄は、溶解剤で再汚染や再付着、溶解した物での再付着が欠点です。

界面活性剤での乳化と＋αの鼻薬で再付着は、極力防止できますし、乳化物も再付着は、
二次洗浄でも洗浄し易くなります。

以上が基本内容なので、樹脂成形型等の脱脂プロセスとは、洗浄物の材質等も含めて、
参考文献内の域を脱していないと推測します。