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※ ChatGPTを利用し、要約された質問です（原文：無電解ニッケルメッキの膜厚測定）
無電解ニッケルメッキの膜厚測定方法
2023/10/13 16:18
このQ&Aのポイント
- 無電解ニッケルメッキを行う半導体素子の膜厚測定に困っている
- 現在は素子を割って膜厚を測定する方法しか思いつかない
- 良い膜厚測定方法を知っている方はいらっしゃいますか？
※ 以下は、質問の原文です
無電解ニッケルメッキの膜厚測定
2004/10/29 01:06
半導体素子に無電解ニッケルメッキを行っているのですが、膜厚測定の方法に困っています。 膜厚は５μｍを狙っているのですが、今のところ素子を割って膜厚を測定する方法しか思いつきません。何か良い方法はないでしょうか？よろしくお願いします。
質問者が選んだベストアンサー
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2004/10/29 08:18
回答No.1
蛍光X線膜厚測定機がありますが、素材が半導体素子となると．．．測れるかどうか。
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その他の回答 （3件中 1～3件目)
2004/10/29 09:38
回答No.3
電解式膜厚計ではどうでしょうか？
（たしか、めっき膜を溶解し材質変化時の電位変化を検出するはずですので、もしかしたら使えるかもしれません。←間違いがありましたらご指摘下さい。）
#1のがおっしゃる様に半導体素子な点が問題ですが、蛍光Ｘ線よりは可能性が高いのではないかと思います。
お礼
2004/10/29 20:57
ご回答ありがとうございました。みなさんからご回答いただきました方法をさっそく検討させていただきます。また何かありましたら、よろしくお願いします。
2004/10/29 08:28
回答No.2
ダミー材を同時にめっきしてそれをはかられたらどうですか？
もしくはめっき前後の重量で皮膜換算をすればいかがですか？（検量線の作成要）
お礼
2004/10/29 20:53
複数案ご回答していただきまして、ありがとうございます。参考にさせていただきます。ありがとうございました。
お礼
2004/10/29 20:41
早速のご回答ありがとうございます。やはり、それなりの機材を揃えないと測れないようですね。参考にさせていただきます。ありがとうございました。