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※ ChatGPTを利用し、要約された質問です（原文：均一電着性の低いNiめっき）
均一電着性の低いNiめっき
2023/10/14 05:19
このQ&Aのポイント
- スルファミン酸Niを使用した下地めっきの替わりとなる、均一なめっき厚を持つNiめっき液（又はめっき方法）を探しています。
- ニッケルめっきにおいて、下地めっきとして使用されるスルファミン酸Niの均一電着性が低いため、より均一なめっき厚を持つ別のNiめっき液（または他のめっき方法）を求めています。
- 求めているのは、下地めっきとして使用するNiめっき液で、スルファミン酸Niよりも均一なめっき厚を実現できるものです。
※ 以下は、質問の原文です
均一電着性の低いNiめっき
2005/11/04 23:58
コネクタの下地めっきとしてスルファミン酸Niを使用していますが、
これの替わりとしてめっき厚の分布が大きいNiめっき液（又はめっき方法）を探しています。
どなたがご存知の方、教えて頂けないでしょうか。
回答 （2件中 1～2件目)
2005/11/05 21:14
回答No.2
均一電着性を悪くしたいのであれば，浴の導電率を低くしたり，
カソード（母材）とアノードを出来るだけ近づけてめっきする等ではだめでしょうか？
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2005/11/05 13:38
回答No.1
失礼ですが、質問の意味が不明です。
均一電着性の低いNiめっき＝めっき厚を意図的に変化させたいのでしょうか？ か？
めっき厚の分布が大きいNiめっき液＝意味不明です。
現在お困りの、又は変更したい内容を具体的に説明できませんか？
補足
2005/11/05 20:36
失礼しました、補足します。
フープ材でNi下地めっきを行っていますが、理由があってこのめっきのめっき厚のばらつきをできるだけ大きくしたいと考えています。
具体的には、製品全体的に母材の凸部と凹部のめっき厚の差が大きくなるようにしたいのです。
これを実現する方法として、スルファミン酸Niめっき液に替わるめっき液を探しています。
お礼
2005/11/06 01:01
ありがとうございます。
試してみたいと思います。