メッキ処理中の水補給による影響

Question

こんにちは、いつも参考にさせて頂いてます。当方電解ニッケルメッキにてダイヤモンドを固着しております。メッキでは殆んどの場合加温による水の蒸発により必ず水補給を行うと思います。当方では浴温５０℃、浴量１００Ｌのメッキ槽へ１日１回約５Ｌの水を一度に補給します（この時浴温は低下し、ＰＨ値は上がり、イオン濃度も低くなります）。最近になってどうやらこの行為がメッキ皮膜にこぶ状のバリ、メッキ速度の低下、光沢浴での半光沢の１番の原因になっているのではないかと疑っております（当然他の要因もありますが・・・）。別槽にて検証実験を繰り返した結果、水を補給後には試験板にピットが発生しました。しかも補給後６時間経過してもこの減少は収まりませんでした。しかし別の日に同条件で試験を行っても同じ結果が得られなかったこともあります。試行回数はさほど多くないのですが、私の考えが的を得ているのかどうか確証が持てません。そこで皆様にお尋ねしたいのですがこのような不具合を経験したことのある方、また私の考えが正しいならば、対策としてメッキ液に影響を与えない水補給にはどのようなやり方があるのか教えていただきたいのです。宜しくお願いします

Accepted Answer

頻度は少なくありません。
当方もスルファミンを行っていますが、月１回程度です。
液量が100Ｌと少ないので、十分だと思います。
ただ一つ気になるのが糸巻きのフィルターの目の大きさです。
大きすぎると効果ありませんので、最低でも1μｍを使われたほうが良いでしょう。
また、アノードはどうしていますか？
アノードバックはもちろんありますよね？
アノードバックが破れていないか、目からアノードのスラッジが出ていないか確認はできていますか？
アノードが電着物の上に来るのならアノードスラッジの影響も考慮してください。

Answer

ろ過は活性炭のみですか？
目の小さいフィルターのろ過もお勧めします。1μｍ程度。

Answer

めっき速度の低下、光沢の低下はめっき温度に関係してくると思います。
一度の補給でどれぐらい下がるのかわかりませんが、対策としては何点かあります。
１．水を50℃に温めてから補給する。
２．一度に補給せずに定量ﾎﾟﾝﾌﾟなどで時間をかけてゆっくり補給する。
３．熱源を増やす。
１の対策が一番簡単です。

めっきのこぶはよくわかりませんが、ｐＨがあがるのなら可能性はあります。
しかし、６時間後となると、どうかわかりません。

もしかして、水を入れたときにめっき槽の下に堆積しているゴミ類が舞い上がって、それが共析し、こぶができているのかもしれませんね。

メッキ処理中の水補給による影響